NSR-2205i11光刻机用紫外线灯

低压汞灯（low pressure mercury lamp）指汞蒸气压力为1.3～13Pa（0.01～0.1mmHg），主要发射波长在紫外区的253.7nm（0.01mmHg），相当能量为471.0kJ/mol（112.5kcal/mol），占灯的总能量的70%的汞蒸气弧光灯。25℃时，该灯的主射线为253.7和184.9nm。低压汞灯光强低，光固化速度慢，但发热量小，不需冷却就可使用，在印刷制版上用得较多。主要应用作杀菌灯、荧光分析、光谱仪波长基准。这类灯又称灭菌灯，主要分类为：冷阴极辉光放电灯和热阴极弧光放电灯。低压汞灯点燃时汞蒸气压小于一个大气压，此时汞原子主要辐射波长为253.7nm的紫外线。常用的“日光灯”灯管内壁涂以卤磷酸钙荧光粉，再将紫外线转变为可见光。节能型荧光灯内壁涂有稀土荧光粉，发光效率更高。专业紫外线灯，为半导体工业提供持久动力。NSR-2205i11光刻机用紫外线灯

 紫外线固化杀菌 (1)杀菌原理： 通过紫外线杀菌就是通过紫外线的照射，破坏及改变微生物的 DNA(脱氧核糖核酸)结构，使细菌当即死亡或不能繁殖后代，达到杀菌的目的。紫外线杀菌的有效波长范围可分为四个不同的波段：UVA(400～315nm)、UVB(315～280nm)、UVC(280～200nm)和真空紫外线(200～100nm)，真正具有杀菌作用的是UVC紫外线，因为C波段紫外线很易被生物体的DNA吸收，尤以253.7nm左右的紫外线 。[1] uv固化原理 紫外线固化原理： 紫外线光(UV)固化是利用光引发剂(光敏剂)的感光性、在紫外线光照射下光引发形成激发生态分子，分解成自由基或是离子，使不饱和有机物进行聚合、接技、交联等化学反应达到固化的目的。 紫外灯的红外辐射的处理方法： 紫外线高压汞灯将60%的总功率转变为红外辐射，灯管表面温度可升到700-800℃。 尼康曝光电源紫外线灯5KW电源以紫外线之力，突破半导体工业的极限。

光刻机的品牌众多，根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类：**的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，**光刻机号称世界上**精密的仪器，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。极紫外光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML（镜头来自德国），日本Nikon（intel曾经购买过Nikon的半导体光刻机）和日本Canon三大品牌为主。

高压短弧汞灯又称高压汞灯，ORC制作所有30年以上制造经验。

点亮汞灯需要高压启动器配合，目的是提供20KV电压，用于击穿汞灯的阳极/阴极之间的绝缘状态，使其在灯球内形成短路状态，持续放射出电弧。

电源提供电子，运动方向由正电荷移动到负电荷，电子和汞蒸气原子在灯球内相互碰撞，产生热量，100KPa以上的膨胀高压，持续发出紫外线平行光。

根据产品所需紫外线光种类，调整汞液体的充填量和充填稀有气体种类。

波长分布设计跨度UVA，UVB，UVC。 i线步进式光刻机NSR-SF130,用于半导体器件制造。使用ORC高压汞灯，功率5KW，型号：NLi-5001AL。

半导体领域使用光刻机有5类：G线光刻机，使用高压汞灯作为光源，紫外线波长为436nm，产品分辨率500nm以上；I线光刻机，使用高压汞灯作为光源，紫外线波长为365nm，产品分辨率28nm以上；氟化氪(KrF)光刻机，使用氟化氪准分子激光(DUV)作为光源，紫外线波长为248nm，产品分辨率180nm；氟化氩光刻机，使用氟化氩准分子激光(DUV)作为光源，紫外线波长193nm；EUV光刻机，使用13.5nm极紫外线，产品分辨率，分辨率可达7nm；敝司代理光刻机使用的I线365nm高压汞灯紫外线。NSR-2205iL1 曝光光源是 i-line（365nm波长），分辨率≤350nm，NA为 0.45，曝光场22 mm x 22 mm。Sensor紫外线灯UV-35H

光刻机性能的三大指标分别是分辨率（CD）、套刻精度（overlay）、和产率（throngput，wph）。NSR-2205i11光刻机用紫外线灯

特定の気体と金属蒸気の放電によって発光する電極間隔が1〜10ｍｍ程度のランプで、点灯中の圧力は100kPa以上です。リソグラフィ用UVランプとして高い評価と信頼をいただいています。ORCショートアークUVランプは高効率で紫外線を放射する点光源として、露光、乾燥、その他あらゆる産業、研究分野で利用されています。お客さまの御要望にお応えする幅広いラインナップを取りそろえており、共同開発などの課題解決のお役に立てます。NSR-2205i11光刻机用紫外线灯